通用型镀涂前处理
-
HMC-SUC-109通用清洗添加剂酸性清洗通用添加剂。良好的缓蚀、抑制酸雾和去油污、除灰性能。无磷、无硅、不含APEO易降解,泡沫适中,易清洗,耐硬水。
-
HMC-HAC-303通用型强力固体活化酸盐替代液体酸,配有无机、有机酸盐及特殊添加剂。除膜活化力强。同时具有缓蚀、防渗氢作用,快速去除基材表面氧化皮膜、污垢。
-
HMC-SEC-301通用型酸性电解清洗添加剂配合无机酸、有机酸电解清洗。可快速去除油垢、氧化膜、锈斑等。具有抑酸雾、缓蚀、防渗氢作用。无APEO易降解,易清洗。
-
HMC-SUC-300通用型酸性浸泡清洗添加剂配合无机酸、有机酸使用。可快速去除油垢、氧化膜、锈斑等。具有抑酸雾、缓蚀、防渗氢作用。无APEO易降解。易清洗。
-
HMC-SEC-106通用型碱性终端电解清洗弱碱性。良好的导电性能,可除去抛光膏及多种油垢。无磷、无硅、无APEO易降解,泡沫适中易清洗,耐硬水。油污容纳量高。
-
HMC-SEC-105通用型碱性初端电解清洗弱碱性。良好的导电性能,可除去抛光膏及多种油垢。无磷、无APEO易降解,泡沫适中易清洗,耐硬水。油污容纳量高。
-
HMC-WAC-102通用型强力除蜡清洗疏水膜型除蜡剂,除蜡后需浸渍pH>11的碱性清洗剂除膜,配合超声波使用效果更佳。无磷、不含APEO易降解。耐硬水。
-
HMC-USC-101通用型碱性超声波清洗弱碱性清洗剂,良好的除灰斑、除油垢、除抛光膏性能。无磷、无APEO易降解,耐硬水。泡沫适中,易清洗。
-
HMC-SUC-100通用型碱性热浸清洗可除去抛光膏及多种油垢。能保持基材原有的光泽。无磷、不含APEO易降解。易清洗。耐硬水。油污容纳量高。配合超声波使用效果更佳。